短波長紫外線清洗、改質裝置。具有干洗處理、無需真空處理、無破壞燈特長，紫外線燈和照射裝置所獨有的高輸出照射技術，實現了以往用溶劑或超聲波清洗液難以達到的高品質、高速處理效果。為客戶能制造出更高品質的產品而提供最先進的紫外線清洗和紫外線改質。

巖征紫外線清洗：利用紫外線的作用所產生的臭氧，從臭氧中分解出的活性氧把有機污染物質分解成揮發性物質（例如H2O、CO、CO2、NO2）并將之除去。

巖征紫外線改質：有機系被照射物通過紫外線的照射，使表面層的化學結合被切斷，同時紫外線所產生的臭氧所分解出的活性氧將被切斷的表面層的分子結合，轉換成高親水性的官能團（例如：-OH、-CHO、-COOH）。

巖征儀器?UV光清洗、改質設備特點（Product?Features）：

1、?批式裝置（光源可配）

2、?小型輕巧低成本：移動、安裝簡單的輕巧機身，輕量設計，此外，無真空處理污水處理、電氣工程等附帶設備。

3、操作簡單：操作方法非藏簡單，也容易保養，只要設定處理時間，然后按開始按鈕便會啟動。

4、?款式豐富：款式豐富，能對應各種尺寸的處理物。

靈活的設計：能設計成適合各種類型制品的形狀、處理速度的各種燈的裝載機，也容易保養。

5、構造安全：裝置是完全封閉的構造，不必擔心臭氧或紫外線的泄漏。排放的臭氧通過催化作用進行分解處理。

巖征儀器?UV光清洗、改質設備應用：

?????表面的原子級清洗?
???聚合物粘接
???去除有機分子
???釋放捕獲的無機分子
???微流控制作
???微米/納米構型
???紫外光固化
???表面化學改性
???表面殺菌
???表面氧化
???金屬粘結準備

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